4月22日，Aresis China兄弟公司miDALIX的技術(shù)總監(jiān)Anze Jeric將應(yīng)邀在山東大學(xué)物理學(xué)院進(jìn)行一次主題為“超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術(shù)”的宣講會。歡迎對光刻技術(shù)感興趣的老師和同學(xué)們屆時(shí)參加。

主講人：Anze Jeric
公司：Aresis China |艾銳斯科技（北京）有限公司
時(shí)間：4月22日 上午9:00
地點(diǎn)：物理學(xué)院 離子束會議室
邀請人：王磊 副教授

摘要：
1. 光刻技術(shù)及其應(yīng)用的簡單介紹。
2. 超穩(wěn)定無掩膜納米光刻機(jī)的技術(shù)實(shí)現(xiàn)：如何將納米級超高精度激光定位技術(shù)引入光刻機(jī)的設(shè)計(jì)實(shí)踐，如何更好的操控直寫光源，其它部分設(shè)計(jì)與納米級超高精度激光定位技術(shù)的配合。
3. 超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用中的優(yōu)勢：結(jié)構(gòu)平滑度，定位精準(zhǔn)度，套刻精準(zhǔn)度，穩(wěn)定度保證等。
4. 使用超穩(wěn)定無掩膜納米光刻技術(shù)設(shè)備過程中需要注意的關(guān)鍵問題。
5. 其它用戶友好設(shè)計(jì)與該技術(shù)的主要應(yīng)用領(lǐng)域。
6. 典型應(yīng)用實(shí)例展示。

典型產(chǎn)品：DALI高分辨無掩膜納米光刻機(jī)
主要特點(diǎn)
最小特征結(jié)構(gòu)可小達(dá)1μm
對I-line光刻膠進(jìn)行優(yōu)化（SU-8，AZ，……）
超快不超高精度定位，定位分辨率＜1nm
適用于從CAD設(shè)計(jì)到各種結(jié)構(gòu)的快捷構(gòu)建
用戶友好的單應(yīng)用界面
具備自勱對焦機(jī)制不離焦直寫模式
內(nèi)建顯微鏡可用于樣品定位
具備非平表面直寫能力
可構(gòu)建高深寬比結(jié)構(gòu)（可達(dá)10:1）
獨(dú)有的光斑間距調(diào)節(jié)功能以獲得超高平滑度的結(jié)構(gòu)